Зеленоградское микроэлектронное предприятие сообщает о старте продаж чипов, разработанных по технологии уровня 90 нм конструкторами «Микрона». Чипы производятся на собственной линии 90 нм, что обеспечило ей 20% загрузки через полгода после запуска, сообщили Zelenograd.ru в пресс-службе предприятия. Загрузить новую линию на 70-80%, добившись её экономической эффективности, «Микрон» намерен в течение следующего года.

Чип памяти, разработанный дизайн-центром «Микрона» и выпущенный на его производстве, предназначен для применения в блоках и устройствах вычислительных систем. Как сообщается в пресс-релизе «Микрона», первыми потребителями российской памяти уровня 90 нм стали предприятия, разрабатывающие аппаратуру для аэрокосмической техники: «Институт электронных управляющих машин им. И.С. Брука», ЗАО «ОСТЕК», ОАО «НИИ «Субмикрон» и организации Зеленоградского инновационно-технологического центра (ЗИТЦ).

«Использование отечественных микросхем гарантирует надежность и защищенность агрегатов, что особенно важно для аэрокосмической отрасли. Также это упрощает процесс контроля и корректировок выпускаемой продукции, так как на „Микроне“ реализован полный цикл производства — от дизайна чипов до их производства и корпусирования готовых схем, — заявил Геннадий Красников, руководитель направления „Ситроникс Микроэлектроника“ концерна „Ситроникс“, в которых входит зеленоградский „Микрон“. — В дальнейшем мы планируем производить широкий спектр продуктов на линии 90нм, в том числе микроконтроллеры, SIM-карты с электронной цифровой подписью, телекоммуникационные чипсеты».

Производство микросхем 90 нанометров было открыто на «Микроне» в феврале. Тогда начать коммерческое производство на новой линии, то есть достичь показателей выхода годных чипов свыше 90%, планировалось в апреле-мае, о чем сообщил в интервью Zelenograd.ru председатель совета директоров ОАО «НИИМЭ и завод Микрон» Геннадий Красников. По его прогнозу полностью линия может быть загружена к концу 2013 — началу 2014 года.

Сейчас новая фабрика работает, освоены и некоторые дополнительные технологические процессы, необходимые для выпуска чипов 90 нм — в частности, процесс медной металлизации, о котором в интервью Zelenograd.ru рассказывали начальник кристального производства завода «Микрон» Сергей Ранчин и инженер-технолог кристального производства 90/180 нм Роман Арилин. Из трёх тысяч операций, которые проходит кремниевая пластина в процессе изготовления чипов, именно медная металлизация требовала отдельного внимания при освоении технологии производства 90нм, поскольку для чипов 180 нм разводка выполнялась на основе алюминия. «Микрону» пришлось построить дополнительные отдельные «чистые комнаты», где осуществлялся цикл изготовления микросхемы с медной частью — электро-химическое осаждение меди из жидких реагентов, при котором медь ни в коем случае не должна была попасть в транзисторный цикл изготовления через контейнеры или операторов, так как это могло загубить характеристики чипов и сделать выход годных нулевым. Сегодня и эта операция на «Микроне» успешно запущена и работает, подтвердили Zelenograd.ru на предприятии.

В июне нынешнего года «Микрон» сообщал о подготовке специалистов по проектированию и производству микросхем с проектными нормами 90 нанометров в рамках совместного проекта с МИЭТом и РОСНАНО. Уже состоялся первый выпуск 34 магистров МИЭТ, прошедших специальный отбор и двухлетнее обучение в магистратуре частично за счет средств «Микрона» по программе профессиональной подготовки для проекта «Создание серийного производства СБИС на основе наноэлектронной технологии с проектными нормами 90 нанометров». Магистры осваивали практические навыки работы непосредственно на производстве «Микрона» с проектными нормами 180 и 90 нанометров, под началом ведущих специалистов предприятия, которые получили свои знания на фабрике STMicroelectronics во Франции. Большая часть успешных выпускников программы получила приглашения от «Микрона» продолжить карьеру на предприятии.