Завод «Ангстрем-Т» готовится к запуску линии производства микрочипов 90 нанометров — станция очистки воды обеспечит этим важным ресурсом и его, и будущий переход к выпуску микросхем 65 нм. На создание станции потратили 11,5 миллионов евро.

Компания «Ангстрем-Т» завершила пусконаладочные работы и запустила в опытную эксплуатацию станцию подготовки деионизованной воды (СДВ) для обеспечения производственных процессов, сообщила пресс-служба предприятия. Станция обеспечит подачу 100 кубометров воды в час, необходимых для нового зеленоградского завода микроэлектроники, который должен заработать весной 2016 года.

Вода — один из важнейших компонентов в производстве микроэлектронных изделий: для изготовления одного микрочипа весом 2 грамма требуется около 32 литров воды. Она используется для приготовления химических растворов, травления изделий и других технологических операций, а также для промывки кристаллов на пластине.

К качеству воды в микроэлектронике предъявляются очень высокие требования, уровень которых завит от размера полупроводниковых микроэлементов. На СДВ «Ангстрем-Т» производится сверхчистая вода типа Е-1 — ультрачистая вода, которая подходит для технологии выпуска чипов 90-130 нм и последующего перехода к топологическим размерам 65 нм и ниже.

С помощью СДВ из грунтовой воды удаляются практически все неорганические, органические примеси и ионы. В процессе очистки применяются передовые мембранные и ионообменные технологии. Затем для подачи на производство вода проходит через блоки предочистки, обессоливания, глубокой доочистки (деионизации), дегазации, ультрафиолетовой обработки, ионного обмена и ультрафильтрации.

Партнером «Ангстрем-Т» по созданию СДВ стала компания Hager+Elsasser (H+E) с мировым именем и большим опытом проектов в области физико-химической подготовки и очистки воды для промышленных предприятий. Проектирование СДВ началось в апреле 2013 года. «Процесс от монтажа до пуско-наладочных работ и запуска занял больше года, мы привлекли наших лучших специалистов для работы над станцией», — отметил директор российского направления компании H+E Ойген Мартенс.

Запуск станции подготовки деионизованной воды — следующий ключевой этап подготовки к запуску основного производства чипов 90 нанометров на «Ангстрем-Т» после запуска в декабре собственной электростанции.