Главная страница » Форумы » Разговоры обо всём »
Первый российский фотолитограф создан в Зеленограде — он годится для выпуска чипов 350 нм
215221 Еремеев Олег
Две компании, Huawei и Semiconductor Manufacturing International Co. (SMIC), запатентовали технологию литографии самовыравнивающимся четырёхкратным рисунком (self-aligned quadruple patterning, SAQP) для производства микросхем по топологии 3 нанометра.
Форумы
- Разговоры обо всём 19307
- Дети и родители 1309
- Автомобили 443
- Недвижимость, ЖКХ, ремонт 549
- Работа и бизнес 255
- Спорт, фитнес, танцы 229
- Медицина, здоровье, красота 604
- Домашние животные и растения 299
- Популярные темы
- Новые темы
Налоговый вычет за занятия спортом теперь можно получать и за родителей-пенсионеров
За пьяную езду на электросамокатах осудили двух жителей Солнечногорского округа 1 ответ
Школа 853 прокомментировала сообщения о массовом отравлении детей
Вход в «Детский мир» на улице Андреевка оказался затруднен для родителей с колясками
Дополнительные парковки планируют сделать в промзоне Алабушево
|
|
Обсуждение материала Zelenograd.ru
«Первый отечественный литограф мы собрали, сделали. Он сейчас проходит уже испытания в составе технологической линейки в Зеленограде», так анонсировал это знаковое для российской микроэлектроники событие чиновник министерства промышленности, по заказу которого Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) с 2022 года ведёт разработку. К концу 2024 года она должна завершиться созданием опытного образца фотолитографа для изготовления микросхем топологического уровня 350 нм. Запустить серийное производство этого оборудования в ЗНТЦ планируют к концу 2025 года.