Инвестиционный договор по созданию на заводе «Микрон» серийного производства интегральных схем на основе наноэлектронной технологии с проектными нормами 90 нм на пластинах диаметром 200 мм подписан сегодня в Зеленограде. Размер государственных инвестиций составит 6,5 млрд рублей, а производственную базу предоставит «Микрон».

С одной стороны договор подписал генеральный директор Госкорпорации «РОСНАНО» Анатолий Чубайс. С другой — председатель совета директоров АФК «Система» Владимир Евтушенков. На подписании присутствовал премьер Владимир Путин.

Благодаря реализации этого проекта заводу удастся перескочить рубеж 130 нм и модернизировать производство сразу до уровня 90 нм. Проект 90 нм будет реализован на базе уже существующего производства 180 нм, но это не значит, что производство 180 нм закроется, так как эти технологии нацелены на совершенно разные рынки, пояснил гендиректор «Микрона» Геннадий Красников. Например, продуктовая линейка RFID продолжит развитие на нормах 180 нм, а чипы для цифрового ТВ необходимо делать по технологии 90 нм.

На «Микроне» обещают, что развитие проекта позволит создать технологическую систему, включающую в себя дизайн-центры, научно-исследовательские организации, компании, занимающиеся материаловедением микроэлектроники. По словам Красникова, одно рабочее место в микроэлектронном производстве создаёт 8—10 рабочих мест в смежных высокотехнологичных отраслях.

Общий объем финансирования проекта — 16,5 млрд рублей. В соответствии с соглашением, объем инвестиций Госкорпорации составит 6,5 млрд руб. «Ситроникс» вложит в проект равную долю в виде высокотехнологичного оборудования основного исполнителя проекта — завода «Микрон». В долгосрочной перспективе проект предусматривает также привлечение заемного финансирования.

Следующим шагом в технологическом развитии «Микрона» может стать запуск производства по технологии 65—45 нм на пластинах с диаметром 300 мм. Но для этого потребуется уже строительство новой фабрики, «чистой комнаты», инфраструктуры, закупка оборудования с нуля. И в разы большие инвестиции, чем для «сегодняшнего» проекта 90 нм.